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华为拥有光刻机吗?

国子在内蒙古
2021/5/3 19:03:15
华为拥有光刻机吗?

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其他回答(3个)

3个回答

  • 奔哥讲美食

    2021/5/5 12:05:05

    老板总想用最少的支出去赚最多的钱,35岁是个坎儿,有经验但是年龄开始大,对工资有一定的要求。可是,对于老板来说廉价劳动力是最理想的,比如毕业生、资历浅的。

    建议您先调整好自己的心态,年龄不应该成为限制工作的原因,各行各业,行行都能出状元,好好分析下自己的长处,总会找到合适的工作,或是自己创业也是不错的选择。

    最后,祝您早日找到好工作![呲牙]

  • 冷瞳的微视

    2021/5/7 3:40:23

    嗯嗯,很多人有的

  • 楼市的学生

    2021/5/14 15:34:24

    如果华为招聘一名司机,是不是说明华为要进军汽车制造了。

    如果华为招聘一名厨师,是不是说明华为要进军生物工程了。

    如果华为招聘一名保安 ...

    网传华为招聘光刻工艺师,还配了图,如果是真的,也是招聘一名光刻工艺流水线操作员,怎么就跟光刻机制造联系起来了。观者的沸腾是一种心情,写者的流量才是初衷

    但是如果华为招聘光刻工艺师是真的,还如果这个光刻恰好是半导体生产流水线的重要光刻工序的话,倒也能侧面证明华为有可能在筹备自建芯片生产线。这可能是这些消息里唯一积极的因素。

    光刻工艺师是干什么的?

    我们看看普通招聘简历怎么要求的,就知道光刻工艺师是一个什么职位。

    比如某公司光刻工艺工程师工作职责

    1. 负责硅基功率器件IGBT芯片、FRD芯片工艺开发
    2. 负责芯片制备工艺过程质量、良率等把控;
    3. 负责工艺流程确定,工艺实现,验证仿真结果;
    4. 负责工艺结果测试,评估,优化工艺过程及工艺参数;

    以下内容来自某公司对光刻工艺工程师的具体工作要求

    1, 负责洁净室光刻区域的的工艺调试、维护(参与装机、验机、程序设计和产品调试);
    2, 负责净室光刻工艺运行记录书的撰写;
    3, 负责日常净室光刻区域工艺的维护、调试;
    4, 负责维护净室光刻区域工艺的稳定性;
    5, 光刻区域耗材厂商,化学品/材料供应商等的联络和往来;
    6, 协调与设备工程师和净室工程师之间的工作联系;
    7, 半导体微电子或相关专业,有半导体光刻区域相关2-3年工作经验;
    8, 熟悉SPC控制的原理及应用;
    9, 熟悉掌握半导体制造工艺流程。


    大家可以看出,所谓光刻工艺工程师其实就是流水线工作人员,而且还要注意的是,这个光刻是否就是指芯片生产前道光刻工序呢?因为,光刻机这个概念下,因为方向不同,应用的目标工序不同,光刻机的具体作用也不同,大众一般最关心,最为之沸腾的是ASML生产的那种前道工序光刻机

    光刻设备涵盖很多方向、很多工序,功能也不尽相同

    用于半导体芯片生产流水线的光刻设备,分为前道光刻机,比如 ASML这种;还有后道光刻机,比如上海微电子的一些产品。

    前道光刻机主要用于芯片光刻,面对的客户是中芯国际、台积电这种。而后道光刻机主要用于芯片封装,面对的客户是长电科技这种。

    其中,光刻机在后道的先进封装中,得到越来越广泛应用,上海微电子科技将科技攀登中,掌握或部分掌握的技术变成产品,将科技成果及时变现,研制出技术要求相对较低的后道光刻机,顺势形成产业链的多方向布局,甚至填补某些空白。目前上海微电子的后刻设备已经占领了80%以上的国内市场。

    除了芯片流水线应用,LED领域也需要低端的光刻设备,比如大族激光研发的低端光刻机就应用在LED领域,LED领域的光刻机线宽要求相比很粗,同时它只是做单层光刻就可以了,不像我们平常所说的集成电路(IC)光刻机那样要通过多层光刻。

    所以,华为申请了几个光刻设备专利,能说明什么呢?且不说,专利离产品规划、产品研发还有多远,有没有专家告知一下,网传的那几张有些年头的光刻专利,是否可用于类似ASML的光刻技术?

    光刻机是集全球科技、工业大成的设备,单个国家完成尚且困难,何况一个企业呢

    半导体芯片产业链分为IC设计、IC制造、IC封测三大环节。光刻的主要作用是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上,是IC制造的核心环节,光刻工艺定义了半导体器件的尺寸,是芯片生产流程中最复杂、最关键的步骤。

    光刻工艺难度最大、耗时最长,芯片在生产过程中一般需要进行20~30次光刻,耗费时间约占整个硅片工艺的40~60%,成本极高,约为整个芯片制造工艺的1/3。

    光刻机是光刻工艺的核心设备,也是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。光刻机作为前道工艺七大设备之首(光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备),价值含量极大,在制造设备投资额中单项占比高达23%,技术要求极高,集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术。光刻的工艺水平直接决定芯片的制程和性能水平。

    光刻机是人类工业文明的智慧结晶,全球工艺集大成者,被誉为半导体工业皇冠上的明珠。

    高精度光刻机的技术难关有多少

    高端光刻机集合了全球各国最顶尖的科技,如:德国的蔡司镜头技术、美国的控制软件和光源、日本的特殊复合材料等。

    镜头关:

    蔡司是光学和光电行业国际领先的科技企业,研发并销售半导体制造设备、测量技术、显微镜、医疗技术、眼镜镜片、相机和摄影镜头、望远镜和天文馆技术。在半导体制造设备领域,卡尔蔡司在光刻领域提供了主流193纳米光刻光学系统和极紫外13.5纳米光学系统。

    EUV光刻机的镜片便是以蔡司技术打底,Carl Zeiss(卡尔蔡司)是光学及光电子学领域的绝对权威,长期以来为ASML的光刻设备提供最关键且高效能的光学系统。

    光源关:

    源则是高端光刻机另一核心部件,光源波长决定了光刻机的工艺能力。光刻机需要体积小、功率高而稳定的光源。如EUV光刻机所采用的波长13.5nm的极紫外光,这在光学系统中是极为复杂的。

    2013年ASML收购了全球领先的准分子激光器厂商Cymer,加速了EUV光源技术的发展,为光源技术提供了保障。

    定制关:

    光刻机是高度定制设备,与晶圆代工企业的工艺设计和技术水平息息相关。所以,光刻技术的沉淀和发展,有来自下游厂家在一线实践中的经验总结和技术魔改的反向推动。

    台积电和三星都有最新EUV光刻设备,但工艺还是有先进性的差别,台积电的EUV成熟,良品率高,且芯片性能更稳定,有更好的效能比。

    认清现实,迈步发展

    我们的光刻机目前还停留在90nm阶段,更先进的光刻机还得靠进口,技术上需要依赖他国的先进工业成果,这是中国光刻机行业的现实。

    华为已经在B计划的展示中,让我们看到了很多惊喜和意外,但光刻机是泛工业领域内的产品,它需要我们整体工业链的共同进步,需要我们的科研力量在各个方向上,尽快将试验品转换成产品,形成合力,才有可能实现突破。

    华为是我们科技的领头羊,如果华为能够在中短期内,能组建具备一定生产能力的芯片加工流水线,就足以为我们带来震撼了。

    困难再大也要克服,道路漫长也要前行,我们没有退路。

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